2012年度第２回研究会内容（参加者　１４８名　　懇親会　１０９名）

　１．研究会：　2012年7月17日（火）13時30分〜
　　　　　　　　　機械振興会館地下3階 研修室1
　２．懇親会：　17:00〜19:00
　　　　　　　　　機械振興会館　地下3階
　　　　　　　　　ニュートーキョーホール　



　３．プログラム
　　�@「イオンビームスパッタ装置による弗化物薄膜形成技術の紹介」
　　　　　　鈴木操（日本ビーコ株式会社プロセスシステム営業部）

　　　金属フッ化物材料を使用しイオンビームスパッタリング法により形成されたUV 用　　コーティング(LaF3/AlF3 等)の研究開発・量産応用への現状および高スループット　　　IBS 装置について説明いたします。

　　�A「テラヘルツ波センシングの産業化に向けて」
　　　　　　深澤　亮一（有限会社スペクトルデザイン、千葉大学客員教授）
　　　テラヘルツ波の周波数領域は、従来の遠赤外からミリ波にかけての電磁波領域と重　　なり、簡便に使える装置の開発が遅れたことから、これまで産業的に利用されること　　はほとんどなかった。近年、テラヘルツ波のもつ透過性と、物質固有の吸収スペクト　　ルが得られるという特徴を生かして、分析や非破壊検査に応用されつつある。その応　　用の可能性は、工業材料、農業・食品、製薬、バイオメディカル、セキュリティ、環　　境計測など、多岐の分野にわたると考えられており、今後の発展が期待されている。　　本講演では、これまでの10 年間に開発されてきたテラヘルツ波分光装置およびイメ　　ージング装置を概観するとともに、応用例を紹介しながらテラヘルツ波センシングの　　産業化に向けての課題、将来展望について述べる。。　　　　

　　�B「基板の表面粗さがTiO2 光学薄膜の光散乱へ与える影響」
　　　　　　室谷 裕志（東海大学 工学部 光・画像工学科 教授）
　　　近年、光学製品の高機能化に伴い、それに用いられる光学薄膜の光学特性に対する　　要求も高まっています。なかでも光散乱は重要な評価項目であるとともに成膜条件だ　　けでは低減できない問題です。それは光学薄膜において、光散乱が起こる要因の一つ　　に成膜前の基板表面粗さの影響があると考えられるからです。本報告では、主に　　　　TiO2単層光学薄膜について基板表面粗さと成膜後の光学薄膜の光散乱特性への影響に　　ついて報告します。

　　�C「表面粗さと反射率」
　　　　　　杉浦　宗男（東海光学株式会社　薄膜事業部）
　　　光学基板の表面は平滑に見えますが、微視的には必ず粗さを伴います。高反射ミラ　　ーの成膜では、その粗さが原因で目的の反射率が得られないこともあり、事前に注目　　すべきポイントの一つです。実例や計算をまじえて、表面粗さと反射率の関係につい　　てお話致します。。