光学薄膜研究会 The Optical Thin-Film Science and Engineering group 

研究会報告reports

2011年度 第2回研究会内容 (参加者: 研究会106名 親会82名) 


 1.日 時: 2011年8月30日(火) 13時30分〜
 2.場 所: 機械振興会館6階66会議室

 3.懇親会: 17時〜





 4.プログラム
  @「光学薄膜の高反射率の高精度測定」
      株式会社トプコン  秋葉正博氏
    ・高反射率多層膜ミラーの多重反射を利用した高精度測定
    ・成膜方法等による反射率の差異測定

  A「電子ビーム蒸着用電子銃の技術動向」
      日本電子株式会社  高島 徹氏
    ・電子ビーム蒸着用電子銃の原理と取り扱い注意点
    ・電子銃側に関係した成膜テクニックと最新電子銃技術の紹介

  B「成膜装置(スパッタリングとIAD)の紹介」
      株式会社シンクロン 松本繁治氏
    ・最新成膜装置紹介

  C「ISO13696:散乱測定の紹介」(課題)
     東海大学      室谷裕志教授
    ・ISO13696の内容紹介
    ・散乱計測における問題点
  







 光学薄膜研究会 事務局

〒259-1292
神奈川県平塚市北金目 4-1-1
 東海大学 工学部
  光・画像工学科
  室谷研究室内
   光学薄膜研究会

 TEL 0463-58-1211
 FAX 0463-59-2594

事務局専用ページ


    お問い合わせ
     mail