The Optical Thin-Film Science and Engineering group 研究会報告reports
2011年度 第２回研究会内容 （参加者： 研究会１０６名 親会８２名）
１．日 時： 2011年8月30日（火） 13時30分～
２．場 所： 機械振興会館６階６６会議室
３．懇親会： 17時～
４．プログラム
①「光学薄膜の高反射率の高精度測定」
株式会社トプコン 秋葉正博氏
・高反射率多層膜ミラーの多重反射を利用した高精度測定
・成膜方法等による反射率の差異測定
②「電子ビーム蒸着用電子銃の技術動向」
日本電子株式会社 高島 徹氏
・電子ビーム蒸着用電子銃の原理と取り扱い注意点
・電子銃側に関係した成膜テクニックと最新電子銃技術の紹介
③「成膜装置（スパッタリングとＩＡＤ）の紹介」
株式会社シンクロン 松本繁治氏
・最新成膜装置紹介
④「ＩＳＯ１３６９６：散乱測定の紹介」（課題）
東海大学 室谷裕志教授・ＩＳＯ１３６９６の内容紹介
・散乱計測における問題点
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