The Optical Thin-Film Science and Engineering group 研究会報告reports
2011年度 第３回研究会内容 （参加者： 研究会 １３５名 懇親会 １０８名）
１．日 時： 2011年11月29日（火） 13時30分～
２．場 所： 機械振興会館地下3階 研修室2
３．懇親会： 17:00～18:30
４．プログラム
①「光学薄膜形成用真空蒸着材料について」
メルク株式会社 新事業開発部 斉藤 則夫氏
・真空蒸着材料と蒸着方法
・MERCK社製真空蒸着材料のご紹介
・RoHS指令対応について
②「光学薄膜形成用蒸着装置の再現性向上、低散乱・低パーティクル化について」
株式会社昭和真空 営業一課 瀧本 昌行氏
・タクト短縮、分光特性再現性向上を実現するための方法
・低散乱、低パーティクル化を実現するための方法
・昭和真空製装置のご紹介
③「赤外線領域での応用を目指してCeO2膜の構造の検討」
東海大学 工学部 光・画像工学科 室谷 裕志教授
東海大学 大学院 光学研究科 光光学専攻 澤村 文哉氏
・数十年前には用いられていた、現在はあまり使われていないCeO2膜ですが、
赤外線領域で利用できる数少ない酸化物の低屈折率材料です。赤外線領域
での応用を目指して、もう一度、基礎的な部分からCeO2膜について見直し
ています。
④「ＩＳＯ ＴＣ１７２／ＳＣ３ 国際会議報告」
株式会社ニコン コアテクノロジーセンター 秋山 貴之氏
株式会社ニコン コアテクノロジーセンター 佐藤 正聡氏
・ISO9211-3 （光学薄膜の耐久試験）投票結果
・ISO9211-4 （特殊試験）摩耗試験の国際ラウンドロビン試験結果
・ISO9211-1～4のJIS化に向けて
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