光学薄膜研究会 The Optical Thin-Film Science and Engineering group 

研究会報告reports


2011年度 第3回研究会内容 (参加者: 研究会 135名  懇親会 108名)


 1.日 時: 2011年11月29日(火) 13時30分〜
 2.場 所: 機械振興会館地下3階 研修室2

 3.懇親会: 17:00〜18:30





 4.プログラム
  @「光学薄膜形成用真空蒸着材料について」
      
メルク株式会社 新事業開発部  斉藤 則夫氏
    ・真空蒸着材料と蒸着方法
    ・MERCK社製真空蒸着材料のご紹介
    ・RoHS指令対応について
  A「光学薄膜形成用蒸着装置の再現性向上、低散乱・低パーティクル化について」
      
株式会社昭和真空 営業一課  瀧本 昌行氏
    ・タクト短縮、分光特性再現性向上を実現するための方法
    ・低散乱、低パーティクル化を実現するための方法
    ・昭和真空製装置のご紹介

  B「赤外線領域での応用を目指してCeO2膜の構造の検討」
      
東海大学 工学部 光・画像工学科      室谷 裕志教授
      
東海大学 大学院 光学研究科 光光学専攻  澤村 文哉氏
    ・数十年前には用いられていた、現在はあまり使われていないCeO2膜ですが、
     赤外線領域で利用できる数少ない酸化物の低屈折率材料です。赤外線領域
     での応用を目指して、もう一度、基礎的な部分からCeO2膜について見直し
     ています。

  C「ISO TC172/SC3 国際会議報告」
      
株式会社ニコン コアテクノロジーセンター  秋山 貴之氏
      株式会社ニコン コアテクノロジーセンター  佐藤 正聡氏

    ・ISO9211-3 (光学薄膜の耐久試験)投票結果
    ・ISO9211-4 (特殊試験)摩耗試験の国際ラウンドロビン試験結果
    ・ISO9211-1〜4のJIS化に向けて    
  
     




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