2015年度 第3回研究会内容（参加者：研究会 125名　懇親会106名　）

　１．研究会
　　日時　　：2015年10月26(月)
　　場所　　：機械振興会館　地下２Ｆ　ホール
　　開催時刻：13:30～17:00

　２．懇親会：　17:00～19:30
　　　　　　　　　地下3Ｆ
　　　　　　　　　ニュートーキョーホール　
　３．研究会プログラム ----------------------------------------------------------------------------
3.1代表挨拶 東海大学　室谷教授(13:30～13:35)

3.2　「固体ソースECRプラズマ成膜装置の特徴と応用分野」（13:35-14:15）
ＪＳＷアフティ（株）品質保証部　嶋田　勝 様
　ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマは、無電極・低ガス圧・高密度という特徴を有するプラズマである。本プラズマを反応性スパッタ成膜に応用した成膜装置について、その特徴と応用分野について紹介する。

3.3　「高性能アクリル系樹脂Optimas®」（14:15-14:55）
三菱ガス化学株式会社 天然ガス系化学品カンパニー　企画開発部　三枝　暢也 様
　三菱ガス化学㈱は高耐熱、低吸水、低複屈折のアクリル系樹脂「Optimas®」を開発しました。酸化や紫外線による黄変が小さく、厳しい環境下で使用される光学用途に好適です。樹脂特性と光学薄膜蒸着例をご紹介いたします。

------------------------- （休憩 14:55～15:15）-------------------------

3.4　「信頼性プロジェクト中間報告」（15:15-16:00）
東海大学　工学部　光・画像工学科　室谷 裕志教授
株式会社レスカ　営業部　宝泉 俊寛 様
　光学薄膜研究会で進めている、プラスチック基板へ成膜した膜についての信頼性の評価方法（信頼性プロジェクト）について、マイクロスクラッチ試験の結果を中心に中間報告を行います。

3.5　仮題「ISO国際会議報告および中国シンセン光電展報告」（16:00-16:30）
東海大学　工学部　光・画像工学科　室谷 裕志教授
　10月5日(月)～8日(木)にフランス（パリ）で開催されますISO/TC 172/SC 1/およびSC3国際会議に出席し散乱規格の説明を予定していますので、会議の内容について報告します。また、8月31日(月)～9月3日(木)に中国（シンセン）で開催された、The 17th China International Optoelectronic Exposition (CIOE 2015)に参加しましたので、この内容も報告します。

3.6　事務局からのご案内（16:30-17:00）

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