2016年度 第1回研究会内容（参加者：研究会 158名　懇親会133名　）

１．総会
　　日時　　：2016年5月17(火)
　　場所　　：目黑雅叙園　3F シリウス
　　開催時刻：13:00～13:30

２．研究会
　　日時　　：2016年5月17(火)
　　場所　　：目黑雅叙園　3F シリウス
　　開催時刻：13:30～17:00

３．懇親会：　17:00～19:30
　　　　　　　目黑雅叙園　3F シリウス


４．研究会プログラム

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4.1　電子ビーム蒸着技術の基礎と応用～最新技術動向の紹介～（13:35-14:15）　　　　谷口 明　氏（日本電子株式会社 IE事業ユニット　IE技術開発部　１グループ ）

　電子ビーム蒸着法は光学薄膜をはじめとする幅広い応用分野で成膜用ツールとして使われています。今回はその応用例と現状の課題、最新の電子銃技術動向についてご紹介します。

4.2　 ISO/TC172/SC3/WG2標準化関連報告（14:15-15:05）

パート1. 散乱ISOとJIS化の進捗報告 (10分)
　　　　真垣　葉子　氏 (株式会社ニコン　コアテクノロジー本部レンズ部技術課)

　可視散乱ISO提案とそのJIS化について、進捗を報告します。

パート2. 新規標準化テーマ関連報告 (20分)
　　　　大西　晃宏　氏 (株式会社メイショーテクノ　代表取締役)

　光学薄膜に関係する新規標準化の検討項目について説明します。既にISO化が進んでいる低散乱光の計測において、近赤外領域の評価にも対応できるように検討しています。他にも正透過率、正反射率の計測をはじめ、汎用の分光光度計を用いた光学材料の計測に関係する標準化の検討について紹介します。

パート3. 信頼性プロジェクト進捗報告 (20分)
　　　　室谷　裕志　氏（東海大学　工学部　光・画像工学科）

　プラスチック基板へ成膜した光学薄膜の密着性について、信頼性プロジェクトとして進めています。現在、密着性の評価方法としてマイクロスクラッチ試験を中心に評価方法の検討を行っています。各種基材でのテスト結果を中心に進捗状況を報告します。

4.3　軟硝材のコート前洗浄（15:20-16:00）
　　　　浜　公洋　氏（元ソニック・フェロー株式会社）　

　軟硝材、概ね磨耗度300以上の硝材を言います。この硝材を用いたレンズの洗浄は非常に難しく、多くは手拭きをしている状況ですが、ある程度の決まりを守りながら洗浄すると、良品率は高くなります。コート前における、軟硝材の洗浄を無理なく行うための条件ややってはいけない事など具体的な方法を解説します。

4.4　薄膜・表面処理材料の微細構造観察の最前線（16:00:16:40）
　　　　橋本　哲　氏 (JFEテクノリサーチ株式会社 東京営業所)

　薄膜・表面処理材料の微細構造解析に用いられる電子顕微鏡（SEM, TEM）は、ここ10年の間で、FIBによる試料調整とCs補正STEMによるサブオングストロームレベルの観察・分析、極低加速電圧SEMによる表面nmレベルの極表層の観察が可能になってきた。これら装置を先駆的に使ってきた結果（化合物半導体超格子の層構造、酸化物/半導体界面、金属の粒界などのCs補正STE-EDX/EELSM解析。表面処理材料・薄膜の最表面のULV-SEM観察（形態だけでなく化学状態の異なる物質の分布）やサブミクロンレベルの多層薄膜のULV-SEM/EDX分析）を紹介する。

4.5　事務局からのご案内（16:40-17:00）