2018年度 第1回研究会内容（参加者：研究会 154名　懇親会107名　）

１．総会
　　日時　　：2018年4月24(火)
　　場所　　：機械振興会館
　　開催時刻：13:00～13:30

２．研究会
　　日時　　：2018年4月24(火)
　　場所　　：機械振興会館
　　開催時刻：13:35～17:00

３．懇親会：　17:00～19:00
　　　　　　　スターダイナーズ（東京タワー2F）


４．研究会プログラム

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4.1 代表挨拶 東海大学　室谷教授(13:30～13:40)

4.2　『新しい手法の水晶式膜厚計及び基板温度測定について』（13:40-14:20）
㈱昭和真空　部長代理　瀧本 昌行　様
　水晶式膜厚計は光学薄膜を成膜する上で広く使用されております。しかしながら計測中の不安定な挙動や振動子の寿命予測、長寿命化などについては大きな改善は行われてきませんでした。これらの問題を解決するため、今回新手法の水晶式膜厚計を開発致しましたので、水晶振動子及び水晶式膜厚計の基本原理と合わせてご紹介させて戴きます。また、成膜前後及び成膜中の基板温度測定には現在熱電対やヒートラベル、放射温度計などが利用されておりますが、熱電対では基板回転ができなかったり、放射温度計では成膜中の温度測定ができなかったりと不便な面がありました。これらの問題を解決すべく、今回新手法の温度測定ユニットを開発致しましたので、一般的な温度測定方法の注意点などと合わせてご紹介させて戴きます。

4.3　『フィルムコーティングの話』（14:20-15:00）
凸版印刷(株) 担当部長 宇山 晴夫様　事業開発・研究本部　事業開発センター
機械的、化学的、電気的、機能性を示す薄膜を種々の方法を示す。反射防止など光学フィルム、バリアフィルム、透明導電フィルムをプラスチック基材上に目的に応じた蒸着、スパッタ、CVDなど方法に関して紹介する。特に、バリアフィルムからの光学フィルムへの巻取成膜での技術を紹介する。

------------------------- （休憩 15:00～15:15）-------------------------

4.4　『アクリル基板へのＳｉＯ２膜の直接成膜』（15:15-15:55）
東海大学 工学部　光・画像工学科　教授　室谷 裕志
成形性・透明性に優れたアクリル基板への成膜において通常の蒸着手法を用いた場合、膜の密着性に問題がある。本研究では、膜の付着力が弱いため直接の成膜が困難であるアクリル基板に直接成膜を行い、高付着力の光学薄膜を形成することを目的とした。その結果、スパッタリング法と真空蒸着法の複合成膜手法を用いた手法によって密着性の高いＳｉＯ２膜を形成することが可能になった。

4.5　『表面性状の計測方法とJIS/ISO規格の動向について』（15:55-16:35）
法政大学　理工学部 機械工学科 吉田一朗研究室　准教授　吉田 一朗
アジア各国の技術力の向上から日本の製品の更なる高精度・高機能化が求められており，寸法や幾何公差だけでなく表面性状の活用まで必要になっています。そのような背景から，表面性状の計測・解析は，その重要性を増しています。本講演では，表面性状の計測方法の基礎などについて講演します。また，表面性状にかかわるJIS/ISO規格の動向についても講演します。

4.6　事務局からのご案内（16:35-17:00）