2018年度 第3回研究会内容（参加者：研究会 ***名　懇親会***名　）

１．若手の会
　　日時　　：2018年11月16(金)
　　場所　　：機械振興会館
　　開催時刻：10:00～11:30
　　題目　　：｛真空蒸着材料の基礎」
　　講師　　：メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社
　　　　　　　サーフェスソリューションズ　山口 尚暁 様

２．研究会
　　日時　　：2018年11月16(火)
　　場所　　：機械振興会館
　　開催時刻：13:15～17:00

３．懇親会：　17:00～19:00
　　　　　　　ニュートーキョー　地下3階

４．研究会プログラム

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4.1 代表挨拶 東海大学　室谷教授(13:30～13:40)

4.2　『サブナノ段差測定を実現した光干渉顕微鏡システムの紹介』(13:20-14:05）
　　　ニコンインステック　システムデザイナー 西川 孝様 様
　　　　光学顕微鏡を利用して、グラフェンの単原子層段差を含むサブナノ段差を計測
　　　する技術を開発しました。本講演では、その原理と様々な材料の表面の測定例を
　　　中心にご紹介いたします。

4.3 『OICコンテスト説明（設計、製造、測定）』　（14:05-14:50）
　　　光学薄膜研究会　運営委員
　　　来年、3年に1度開催されます光学薄膜の第14回 国際学会Optical Interference
　　　Coatings (OIC)では、毎年、各種コンテストが企画されております。設計、製造
　　　測定の3部門があり、Webサイト上での参加募集も開始されています。今回このコ
　　　ンテストに関して分かりやすくご説明いたします。

------------------------- （休憩 14:50～15:05）-------------------------

4.4　『高出力レーザー用光学薄膜とレーザー損傷』　（15:05-15:50）
　　　公益財団法人レーザー総合研究所　主任研究員　本越 伸二 様
　　　　高出力レーザー装置に使用される光学素子は、しばしば「レーザー損傷」を引
　　　き起こす。これは、レーザー装置の出力制限、稼働時間を制限する要因になって
　　　いる。本講演では、レーザー損傷の物理過程、高出力レーザー用光学薄膜の現状
　　　と課題について紹介する。

4.5　『RASでのEC調光膜、TiO2光触媒膜やシラス膜による防曇膜』(15:50-16:35）
　　　国立都城工業高等専門学校　物質工学科教授　野口 大輔 様
　　　　スパッタリングにおける薄膜構造制御の重要なパラメータは成膜時の温度、す
　　　なわち基板温度とガス圧力です。しかし、近年、酸化物などの無機系の機能性材
　　　料を耐熱性に劣る有機系材料の基板上へ成膜する場合も多くあり、重要なパラメ
　　　ータの一つである基板温度を事実上動かすことができない状況も多くなっていま
　　　す。そこで基板温度に代わる薄膜構造制御のための新たなエネルギーが必要とさ
　　　れてきました。本研究は様々な機能発現に薄膜構造制御(結晶or非結晶)を必要と
　　　する金属化合物体を、事実上、基板温度を動かすことが出来ない状況下で薄膜化
　　　する際に種々の手法に共通した課題になると考えられた熱エネルギーに変わる薄
　　　膜構造制御のための新たなエネルギー制御に焦点をあてて進められたものです。
　　　我々はこの代替エネルギーとして原子状励起種の化学アニーリング効果に着目し
　　　ています。

4.6　事務局からのご案内（16:35-17:00）