2019年度 第3回研究会内容（参加者：研究会 146名　懇親会 104名　）

１．若手の会　基礎講座
　　日時　　：2019年10月15(火)
　　場所　　：機械振興会館　地下3階
　　開催時刻： 10:00～12:00
　　議題　　：「光学薄膜形成用蒸着装置の安定稼働のために」
　　講師　　：株式会社昭和真空　瀧本昌行 様

２．研究会
　　日時　　：2019年10月15(火)
　　場所　　：機械振興会館　地下2階ホール
　　開催時刻：13:15～17:00

３．懇親会：　17:00～19:00
　　　　　　　ニュートーキョー　地下3階


４．研究会プログラム

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4.1 代表挨拶 東海大学　室谷教授(13:30～13:40)

4.2 『ISO19962 光散乱の詳細説明＆ISO9211-8 光学部品のレーザー耐性に関し
　　　て』（13:20-14:05）
　　「光学部品による散乱光の分光測定方法の規格について ～JIS B 7081 と ISO 19962～」
　　株式会社日立ハイテクサイエンス アプリケーション開発センタ 栗田 浩二 様

　　　光学部品による散乱光の分光測定方法の規格 JIS B 7081 が2017/9 、ISO
　　 19962 が2019/5 に公示されました。この規格で規定される分光光度計の概
　　要や2 つの規格の差異について説明します。

「ISO9211-8 光学部品のレーザー耐性に関して」
　　　株式会社ニコン 生産本部 加工技術開発部 第三開発課 逢坂 昌宏 様

　　　光学コーティングに関する国際規格としてISO9211 シリーズがある。レーザ光学
　　に使用されるコーティングの最低限の要求事項となるISO9211-8 が制定された
　　ISO9211-8 の内容について報告する。

4.3 『OIC 2019 参加報告』（14:05-14:50）
　　　株式会社ニコン 生産本部 加工技術開発部 第三開発課 真垣 葉子 様

　　　Optical Interference Coating （以下OIC）は3 年に1 度、北米で開催さ
　　れる光学干渉薄膜の学会である。6 月3 日～6 日の5 日間にわたり、米国
　　ニューメキシコ州で開催されたOIC2019 に参加したので、その概要について
　　報告する。

------------------------- （休憩 14:50～15:05）-------------------------

4.4 『Optical Characteristics of Low-Refractive-Index Optical Thin Films 　　　Fabricated by Sputtering and Electron-Beam Vacuum Deposition』
　　　（15:05-15:20）　　　東海大学 速水 舞様

　　　電子ビーム蒸着とスパッタリング併用プロセスにより成膜した低屈折率光学薄膜
　　の特性を光学特性を中心に報告する。

4.5 『Mechanical Properties of Low-Refractive-Index SiO2 Optical Films』
　　　（15:20-16:35）　　　東海大学 呂 翔宇 様

　　　電子ビーム蒸着とスパッタリング併用プロセスにより成膜した低屈折率SiO2 光
　　学薄膜の機械的特性を中心に報告する。

4.6 『「ステップND フィルター」の作製結果』（16:35-16:50）
　　　朝日分光株式会社 部品事業部 成膜部 基礎研究グループ 佐藤 一輝 様

　　　マグネトロンスパッタリング法でステップ状の分光透過率をもつ光学フィルター
　　を作製し、設計値に近似した実測値を得た。高度な分光特性をもつ光学フィルター
　　を歩留まり良く作製可能であり、様々な分野で応用が期待される。

4.7 『SiO 層によるGe/Na3AlF6 から成る遠赤外線フィルターの剥離防止』
　（15:50-16:05）
　　　朝日分光株式会社 部品事業部 成膜部 基礎研究Ｇ 室 幸市 様

　　　遠赤外線フィルター（Ge/Na3AlF6）を構成するNa3AlF6 超厚膜に対して、SiO 層
　　による剥離抑制の効果を見出した。このフィルターを用いて、サーマルカメラにて
　　ガス（HFC）イメージングを行った。

4.8 『膜応力による基板の反りの定量的計算について』（16:05-16:20）
　　　東海光学株式会社 開発部 主席 杉浦 宗男 様

　　　成膜により基板が反ることは良く知られています。予め成膜後の反りを計算する
　　ためには、基板と膜の機械的、熱的物性など多数のパラメータが必要とされ、精度
　　良く求めるのは容易ではありません。本研究では、簡易的かつ定量的に反り予測す
　　る計算の枠組みを提案しました。

4.9 『揺動自転運動による膜厚均一性および成膜粒子入射角均一性の向上』
　　（16:20-16:35）
　　　株式会社トプコン 製品開発本部 設計支援部 化学・薄膜技術課
　　　エキスパート 秋葉 正博 様

　　　スパッタリング成膜において、自転回転に対して揺動運動を加えることにより膜厚
　　均一性および成膜粒子の入射角均一性を向上させる技術について報告する。

4.10『ビューラー株式会社 会社紹介』（16:35-16:45）

4.11『株式会社シンクロン 会社紹介』（16:45-16:55）

4.12 事務局からのご案内（16:55-17:00）